Ⅰ.硅單質及其化合物用途廣泛,請回答下列問題:
(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法,生
產(chǎn)過程示意圖如圖:
寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式:SiHCl3+H2 1357K Si+3HClSiHCl3+H2 1357K Si+3HCl。
(2)在人體器官受到損傷時,需要使用一種新型無機非金屬材料來植入體內,這種材料是 BB(填序號)。
A.高溫結構陶瓷
B.生物陶瓷
C.導電陶瓷
Ⅱ.某?;瘜W興趣小組按如圖所示裝置進行實驗,驗證木炭與濃硫酸反應放出的氣體是SO2、CO2和少量CO?;卮鹣铝袉栴}:
(1)連接裝置后,先進行的操作是 檢查裝置的氣密性檢查裝置的氣密性;儀器a的名稱為 圓底燒瓶圓底燒瓶。
(2)洗氣瓶①②中溶液褪色,體現(xiàn)的二氧化硫的性質依次為 BB(填序號)。
A.氧化性、還原性
B.漂白性、還原性
C.漂白性、氧化性
D.還原性、漂白性
(3)洗氣瓶②中酸性高錳酸鉀溶液不能用足量的新制氯水代替的原因是 氯水中的Cl2分子會隨著CO2進入洗氣瓶③,使③中的品紅褪色氯水中的Cl2分子會隨著CO2進入洗氣瓶③,使③中的品紅褪色。
(4)上述實驗證明木炭與濃硫酸反應放出的氣體中有少量CO的實驗現(xiàn)象是 洗氣瓶⑤中有部分液體被排入⑥中洗氣瓶⑤中有部分液體被排入⑥中。
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K
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【答案】SiHCl3+H2 Si+3HCl;B;檢查裝置的氣密性;圓底燒瓶;B;氯水中的Cl2分子會隨著CO2進入洗氣瓶③,使③中的品紅褪色;洗氣瓶⑤中有部分液體被排入⑥中
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【解答】
【點評】
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發(fā)布:2024/6/27 10:35:59組卷:22引用:1難度:0.7
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