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一定溫度下,向2L密閉容器中加入1molHI(g),發(fā)生反應(yīng)2HI(g)?H2(g)+I2(g)物質(zhì)的量隨時(shí)間的變化如圖所示。
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(1)0~2min內(nèi)的平均反應(yīng)速率v(HI)=
0.05mol/(L?min)
0.05mol/(L?min)
,該溫度下,H2(g)+I2(g)?2HI(g)的平衡常數(shù)K=
64
64
。
(2)相同溫度下,若開始加入HI(g)的物質(zhì)的量是原來(lái)的2倍,則
b
b
是原來(lái)的2倍。
a.平衡常數(shù)
b.HI的平衡濃度
c.達(dá)到平衡的時(shí)間
d.平衡時(shí)H2的體積分?jǐn)?shù)
(3)在H2(g)+I2(g)?2HI(g)反應(yīng)中,正反應(yīng)速率為
v
=
k
?
c
2
HI
,逆反應(yīng)速率為v=k?c(H2)?c(I2)。其中k、k為速率常數(shù),則k=
K×k
K×k
(以K和k表示)。
(4)實(shí)驗(yàn)室用Zn和稀硫酸制取H2,加入少量下列試劑中的
b
b
,產(chǎn)生H2的速率將增大。
a.NaNO3
b.CuSO4
c.Na2SO4
d.NaHCO3
(5)氫氣用于工業(yè)合成氨;N2(g)+3H2(g)?2NH3(g) ΔH=-92.2kJ?mol-1,一定溫度下,在容積恒定的密閉容器中,一定量的N2和H2反應(yīng)達(dá)到平衡后,改變某一外界條件,反應(yīng)速率與時(shí)間的關(guān)系如圖所示。
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其中t5時(shí)刻所對(duì)應(yīng)的實(shí)驗(yàn)條件改變是
減少生成物NH3的濃度或移走NH3
減少生成物NH3的濃度或移走NH3
,平衡常數(shù)最大的時(shí)間段是
t8~t9
t8~t9
。

【答案】0.05mol/(L?min);64;b;K×k;b;減少生成物NH3的濃度或移走NH3;t8~t9
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
聲明:本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書面同意,不得復(fù)制發(fā)布。
發(fā)布:2024/10/12 7:0:1組卷:15引用:1難度:0.5
相似題
  • 菁優(yōu)網(wǎng)1.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料?;卮鹣铝袉?wèn)題:
    (1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
    Si(s)+4HCl(g)═SiCl4(g)+2H2(g)△H=-241kJ/mol
    SiHCl3(g)+HCl(g)═SiCl4(g)+H2(g)△H=-31kJ/mol
    以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
     
    。
    (2)鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲(chǔ)氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑,遇水能得到無(wú)色溶液并劇烈分解釋放出H2,請(qǐng)寫出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式
     
    。LiAlH4在化學(xué)反應(yīng)中通常作
     
    (填“氧化”或“還原”)劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰(LiAlH4)制甲硅烷,反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
     
    。
    (3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
    ①353.15K時(shí),平衡轉(zhuǎn)化率為
     
    ,該反應(yīng)是
     
    反應(yīng)(填“放熱”“吸熱”)。
    ②323.15K時(shí),要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間,可采取的最佳措施是
     
    。
    (4)比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐a
     
    v(填“>”“<”或“=”)。已知反應(yīng)速率v=k1x2_SiHCl3
    v=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4,k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù),與反應(yīng)溫度有關(guān),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),則在353.15K時(shí)
    k
    1
    k
    2
    =
     
    (保留3位小數(shù))。
    (5)硅元素最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物是H2SiO3,室溫下,0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液,堿性更強(qiáng)的是
     
    ,其原因是
     
    。
    已知:H2SiO3:Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12,H2CO3:Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:61引用:2難度:0.2
  • 菁優(yōu)網(wǎng)2.在催化劑作用下,可逆反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)在溫度為323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示(已知:反應(yīng)速率v=v-v=kx2SiHCl3-kxSiH2Cl2xSiCl4,k、k分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù))。下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是(  )

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:40引用:1難度:0.5
  • 菁優(yōu)網(wǎng)3.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料?;卮鹣铝袉?wèn)題:
    (1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
    ①Si(s)+4HCl(g)═SiCl4( g)+2H2(g)△H=-24lkJ/mol
    ②SiHCl3 (g)+HCl(g)═SiCl4 (g)+H2(g)△H=-3lkJ/mol
    以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
     
    。
    (2)工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰(LiAlH4)制甲硅烷,反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
     
    。
    (3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
    ①353.15K時(shí),平衡轉(zhuǎn)化率為
     
    。該反應(yīng)是
     
    反應(yīng)(填“放熱”或“吸熱”)。②323.15K時(shí),要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間,可采取的措施有
     
    。(答一種即可)
    ③比較a、b處反應(yīng)速率的大小:va
     
    vb(填“>”“<”或“=”)。已知反應(yīng)速率v=k1x2SiHCl3 v=k2xSiH2Cl2 xSiCl4,k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù),與反應(yīng)溫度有關(guān),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),則在353.15K時(shí)
    k
    1
    k
    2
    =
     
    (保留3位小數(shù))。

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:19引用:1難度:0.5
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