中國芯片蝕刻技術國際領先。NF3進行硅芯片蝕刻時的產(chǎn)物均為氣體，在蝕刻物表面不留任何殘留物。該反應微觀示意圖如下，下列說法正確的是（ ）
【答案】C
【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/12/24 9:0:1組卷：97引用：7難度：0.7
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發(fā)布：2024/12/24 12:0:2組卷：127引用：2難度：0.6 -
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發(fā)布：2024/12/24 12:0:2組卷：111引用：4難度：0.5
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