在芯片制造過程中,離子注入是其中一道重要的工序.如圖所示是一部分離子注入工作原理示意圖,離子經(jīng)加速后沿水平方向進入速度選擇器,選擇出一定速度的離子,然后通過磁分析器Ⅰ,選擇出特定比荷的離子,經(jīng)偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)Ⅱ后注入水平放置的硅片上.速度選擇器、磁分析器中的勻強磁場的磁感應(yīng)強度大小均為B,方向均垂直紙面向外;速度選擇器中的勻強電場場強大小為E,方向豎直向上.磁分析器截面是矩形,矩形長為2L,寬為(4-23)L.其寬和長中心位置C和D處各有一個小孔;半徑為L的圓形偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)Ⅱ內(nèi)存在垂直紙面向外,磁感應(yīng)強度大小可調(diào)的勻強磁場,D、M、N在一條豎直線上,DM為圓形偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)的直徑,最低點M到硅片的距離MN=L2,不計離子重力。
(1)求離子通過速度選擇器后的速度大??;
(2)求磁分析器選擇出來的離子的比荷;
(3)若偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)磁感應(yīng)強度大小的取值范圍233B≤B偏≤3B,求硅片上離子注入的寬度.
(
4
-
2
3
)
L
L
2
2
3
3
B
≤
B
偏
≤
3
【答案】見試題解答內(nèi)容
【解答】
【點評】
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發(fā)布:2024/4/20 14:35:0組卷:413引用:5難度:0.2
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1.如圖,速度選擇器兩極板間有互相垂直的勻強電場和勻強磁場,一電荷量為+q的粒子以水平速度v0從左側(cè)射入,恰能沿直線飛出速度選擇器,不計粒子重力和空氣阻力。下列說法正確的是( )
發(fā)布:2024/11/19 3:0:1組卷:175引用:2難度:0.5 -
2.如圖所示的速度選擇器兩板間有互相垂直的勻強電場和磁場,電荷量為+q的帶電粒子,以水平速度v0從左側(cè)射入,恰能沿直線飛出速度選擇器,不計粒子重力和空氣阻力,在其他條件不變的情況下( ?。?/h2>
發(fā)布:2024/11/21 14:30:2組卷:208引用:4難度:0.7 -
3.某一具有速度選擇器的質(zhì)譜儀原理如圖所示,A為粒子加速器,加速電壓為U1;B為速度選擇器,磁場與電場正交,磁感應(yīng)強度為B1,兩板間距離為d;C為偏轉(zhuǎn)分離器,磁感應(yīng)強度為B2。今有一質(zhì)量為m,電荷量為e的正粒子(不計重力),經(jīng)加速后,該粒子恰能通過速度選擇器,粒子進入分離器后做勻速圓周運動。求:
(1)粒子的速度v為多少?
(2)速度選擇器兩板間電壓U2為多少?
(3)粒子在B2磁場中做勻速圓周運動的半徑R為多大?發(fā)布:2024/12/2 1:30:1組卷:1475引用:19難度:0.6
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