A 元素的一種單質(zhì)是一種重要的半導(dǎo)體材料，含A元素的一種化合物C可用于制造高性能的現(xiàn)代通訊材料一一光導(dǎo)纖維，C 與燒堿反應(yīng)生成含A 元素的化合物D。
（1）寫出C與氫氟酸發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式是

SiO₂+4HF=SiF₄↑+2H₂O

SiO₂+4HF=SiF₄↑+2H₂O

（2）將C與純堿混合高溫熔融時(shí)反應(yīng)生成D，同時(shí)還生成氧化物E；將全部的E與全部的D在足量的水中混合后，又發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成含A的化合物F。
①分別寫出生成D和F的化學(xué)方程式：

SiO₂+Na₂CO₃

高溫

Na₂SiO₃+CO₂↑

SiO₂+Na₂CO₃

高溫

Na₂SiO₃+CO₂↑

、

Na₂SiO₃+CO₂+H₂O=Na₂CO₃+H₂SiO₃↓

Na₂SiO₃+CO₂+H₂O=Na₂CO₃+H₂SiO₃↓

。
②要將NaOH高溫熔化，下列坩堝中可選用的是

d

d

。
a.普通玻璃坩堝       b.石英玻璃坩堝       c.氧化鋁坩堝         d.鐵坩堝
（3）碳還原SiO₂制SiC，其粗產(chǎn)品中雜質(zhì)為Si和SiO₂．現(xiàn)將20.0g SiC粗產(chǎn)品加入到過(guò)量的NaOH溶液中充分反應(yīng)，收集到0.1mol氫氣，過(guò)濾得SiC固體11.4g,濾液稀釋到1L．生成氫氣的離子方程式為

2Si+2NaOH+H₂O=Na₂SiO₃+H₂↑

2Si+2NaOH+H₂O=Na₂SiO₃+H₂↑

，硅酸鹽的物質(zhì)的量濃度為

0.17

0.17

mol/L。
（4）下列敘述正確的有

②③

②③

（填序號(hào)）。
①Na還原CCl₄的反應(yīng)、Cl₂與H₂O的反應(yīng)均是置換反應(yīng)
②Na₂SiO₃溶液與SO₃的反應(yīng)可用于推斷Si與S的非金屬性強(qiáng)弱
③鈉、鋰分別在空氣中燃燒，生成的氧化物中陰陽(yáng)離子數(shù)目比均為1：2